电子洁净室净化工程应用走向成熟化

     

电子行业，特别迅速发展的亚微米工艺对生产场所空气洁净度要求特别高，在对洁净度的提出更高要

求方面，电子工业是促进前进动力。集成电路光刻工艺的尺寸是推动洁净室要求向前发展的决定因素，技

术越进步，尺寸就越小，如果落在集成电路上的粒子大于最小尺寸的1%--2%,就会使集成电路成为废品，

金属粒子、离子、细菌都是生产废品的元凶。空气洁净度的好坏直接影响电路生产的成品率。同时，对微

电子产品的功能要求越高，投资规模越来越大，就对质量水平的要求越来越严格，电子工业成为世界上越

来越大的工业部门，预计再近年，电子激光最小的光刻尺寸可达到0.5微米。微电路存储量可达64千兆，

世界上大部分在建的洁净室都用于微电子工业，每年建造和使用费用可达百万美元。